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主動式防振臺是一種廣泛應用于精密儀器和設備的抗振系統,它通過智能控制技術主動調節振動隔離,以確保實驗環境或設備處于穩定的狀態。與傳統的被動式防振臺不同,它能夠實時響應外界振動,主動進行補償,達到更高效的減振效果。其工作原理涉及多種先進技術,...
光學粗糙度測試儀是一種用于測量材料表面粗糙度的精密儀器,其準確性和穩定性對于保障產品質量至關重要。以下是關于光學粗糙度測試儀養護方式的相關描述:1.環境要求:光學粗糙度測試儀應放置在無塵、恒溫恒濕的環境中。溫度和濕度的波動會影響儀器的測量精度,因此應盡量保持環境的穩定。此外,儀器應遠離振動源和磁場,以防止對測量結果的干擾。2.清潔維護:定期對儀器進行清潔,特別是在測量過程中可能會有灰塵或雜質附著在儀器的關鍵部件上。使用無塵布或專用清潔工具,輕輕擦拭儀器的表面和鏡頭,以保持其清...
紅外激光測厚儀是一種高精度、非接觸的測量工具,廣泛應用于工業生產和材料測試中。它通過發射激光束并測量激光反射時間來確定物體的厚度。本文將詳細探討如何優化紅外激光測厚儀的使用方法,以提高測量的準確性和可靠性。首先,了解儀器的基本原理和操作是至關重要的。該設備利用激光光束穿透目標物體,通過計算光束反射回來的時間差來測量物體的厚度。為了確保測量精度,設備的對準和校準必須做到位。在開始使用前,應根據制造商提供的操作手冊進行設備的基本校準,確保其能夠提供準確的數據。其次,選擇合適的測量...
掩模對準曝光機,作為半導體制造領域的核心裝備,其工作原理精妙而復雜,如同一位精細的繪圖師,在微小的硅片上繪制出復雜的電路圖案。本文將深入解析該設備的工作原理,展現其在芯片制造中的關鍵作用。一、工作原理概述掩模對準曝光機,又稱光刻機,其核心任務是將掩膜版上的精細圖形精確復制到硅片上。這一過程類似于照片沖印,但精度和復雜度遠超普通照片制作。掩膜版,作為“底片”,其上繪制有需要轉移到硅片上的電路圖案。在曝光過程中,掩膜版與硅片被精確對準,以確保圖案的準確傳輸。曝光開始時,光源(通常...
白光干涉儀是一種利用白光干涉原理進行高精度測量的儀器,廣泛應用于光學元件、半導體材料、金屬材料等的微觀形貌和膜層厚度測量。為了確保白光干涉儀的測量準確性和設備穩定性,以下是一些使用注意事項:1.環境條件:白光干涉儀對環境條件有較高的要求。首先,溫度和濕度應盡量保持穩定,因為溫度和濕度的變化會影響光路的長度和折射率,從而影響測量結果。其次,應避免在有振動和沖擊的環境中使用,因為振動和沖擊會干擾儀器的穩定性。此外,還應避免在有塵埃和化學腐蝕氣體的環境中使用,因為這些因素會影響儀器...
在光學、材料科學及制造業中,光學膜厚儀作為測量薄膜厚度的關鍵工具,其測量精度直接影響到產品的質量和生產效率。然而,任何測量儀器都不可避免地存在一定的誤差,光學膜厚儀也不例外。本文將圍繞該儀器的誤差進行解析,探討其誤差來源、影響因素及改進措施。一、誤差來源光學膜厚儀的誤差主要來源于以下幾個方面:1.儀器本身誤差:包括光學系統、電子系統、機械結構等部分的制造、組裝和校準誤差。這些誤差可能由材料的不均勻性、加工精度不足或校準方法不當等因素引起。2.環境因素:測試時的環境溫度、濕度、...