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簡要描述:納米壓印支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。
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該設備支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。
晶圓直徑 | (基板尺寸) |
標準光刻 | 碎片蕞大150毫米 |
柔軟的UV-NIL | 蕞大150毫米的碎片 |
解析度 | ≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝) |
支持流程 | 柔軟的UV-NIL |
曝光源 | 汞光源或紫外線LED光源 |
自動分離功能 | 不支持 |
工作印章制作 | 外部 |
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結(jié)果(100納米分辨率)
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